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棘手的光刻机,近期再次成为公众关注的焦点。- G: A# | j6 f/ h
3月14日,光刻机板块盘中探底回升。其中金力泰大涨超10%,晶瑞电材、宝通科技大涨8%,扬帆新材、强力新材、富创精密、安集科技等涨幅靠前。
% s2 R) l! l" V' ^7 v 此次光刻机概念股集体上涨事出有因。报道称,消息面上,全球光刻机巨头ASML预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右(约合人民币超162亿元),其正在加快拓展在中国的业务和销售。. U; [' q6 x$ R w) a( U Z0 ~) E
而ASML急于拓展其在华业务,主要与近期荷兰推出的最新半导体制造设备出口管制有关。这导致ASML不能自由出货,尤其是占比较大的中国市场。
& i8 a$ \6 {$ Z' W' z 图源:ASML * I4 `& D: s* |$ q9 b
管制范围扩大到DUV,国内企业和ASML都不好过4 o* e; c. n1 V, w, W5 q6 {) }
当地时间3月8日,在跟美国政府达成协议1个多月后,荷兰政府以“国家安全”为由,宣布将对包括“最先进的”深紫外光刻机(DUV)在内的特定半导体制造设备实施新的出口管制。+ D5 \3 L: ?$ [7 R$ x
这意味着,荷兰方面已将光刻机出口管制的范围,由极紫外光刻机(EUV)扩大到了DUV。; ^! N& j/ w+ e; s/ b0 G
由于DUV仍占很大出货比重,荷兰光刻机巨头ASML很快发布声明,称该公司需要申请许可证,才能出口最先进的浸没式DUV光刻机。
2 z" Z( v2 |, {/ B, L) v. G 目前主流光刻机主要有两种:EUV光刻机和DUV光刻机。& a1 E7 E0 R6 I& O! i# R+ @
前者为当下光刻机最高技术,主要用于7nm及以下先进芯片制造工艺,目前全球只有ASML一家可生产,2022年的出货量为40台,较2021年减少2台;后者可以制造7nm及以上制程的芯片,目前全球仅荷兰ASML和日本尼康两家可供货生产。其中,ASML占据绝对优势。+ P1 C8 z5 X$ G% [$ U
可以看出,ASML拥有极紫外(EUV)和浸没式深紫外(DUV)两种最先进的光刻技术,占据了全球市场份额的80%以上。
% \% V' V: D/ W7 r1 f X 其中,DUV光刻机将是ASML的业务重点。这主要是因为,此前,ASML的最大利润来源是EUV光刻机,三大主要客户分别是台积电、三星和Intel。' L7 K) [0 z7 c, o x
但是,台积电因为先进工艺产能过剩而关闭了部分EUV光刻机,其在美国的5nm工厂也未大举采购EUV光刻机而是将台湾的部分EUV光刻机运往美国;三星受到先进工艺产能过剩的影响,转而发展成熟工艺,为了争取成熟工艺客户主动降低芯片代工价格一成争抢客户;2022年底,由于需求下滑,Intel传出让Intel 4工厂员工放长假的消息,所以Intel也不太可能大规模采购EUV光刻机。; T* K% ~9 D. w: l% d
图源:三星官网 $ y- q" ^. G3 {1 y3 E% {( Y: v* o
如此一来,ASML会将业务重心放在DUV上。这一点,从ASML的产能规划也能看出端倪。数据显示,ASML计划到2025年将DUV光刻机的产能提升至600台。此外,由于台积电、三星等芯片巨头把注意力集中在扩大5nm、3nm等先进制程工艺,不会采购DUV光刻机这类中低端设备,那么,对DUV光刻机需求依然旺盛的中国市场就成为了ASML的主要业务对象之一。
! v x, K8 @$ f2 L: D 相关数据显示,中国大陆是ASML第三大市场,2021年出货量占ASML全球出货量总量的16%,2022年ASML对中国大陆的出货量下降到全球14%。如果继续下降,ASML在中国大陆的运营状况值得考量。
/ u2 V7 W- Z$ ?, d 更加值得注意的是,我国计划在2025年实现七成芯片自给率,如今国产芯片自给率才达到三成,芯片产能扩张规模庞大,对DUV光刻机需求极大,这是ASML急需抓住的机会。* \2 v1 t7 {, U' [% t
智能化趋势下,光刻机对汽车产业的影响今非昔比
( C) |* }$ I6 y" D: @ 实际上,自2019年以来,ASML研发的最先进极紫外光(EUV)设备就已禁止销往中国。
2 l3 n6 }- u7 ^! C 中国汽车芯片产业创新战略联盟的数据显示,2019年中国汽车芯片进口率超90%。但值得注意的是,彼时,我国汽车产业还处于新能源转型时期,多数汽车芯片只需要28nm制程就可以满足。6 @8 `/ ~' x* @& o
然而时至今日,2023年是新能源汽车产业逐步转向智能化重点攻关,自2022年底,国内自动驾驶产业如雨后春笋般成长起来。激光雷达企业禾赛科技已赴美IPO;也有消息称自动驾驶企业文远知行已秘密在美国申请IPO。且甚至连此前被阴霾笼罩的国外自动驾驶企业也开始重新振作,比如Argo AI创始人创办了全新自动驾驶公司。
9 }/ @* z0 F+ k8 Y; R$ t 图源:文远知行
# i$ A# Y7 S( c6 b7 e; j( x4 t6 b- ]/ G 换言之,随着汽车行业电动化与智能化的转型,辅助驾驶功能渗透率越来越高,这些功能的实现需借助于摄像头、雷达等新增的传感器数据。车用芯片的供应压力,只会在未来成倍增长。
8 Q- M' |( ^% D9 u7 y2 S 有汽车行业专家表示,在未来高端智能电动车领域,单车芯片搭载量将数倍增加,达到3000片以上;汽车半导体占整车物料成本比重,将从2019年的4%提升至2025年的12%,并或将在2030年提升至20%。. c, P- c7 ]+ X- }* u* n
这不仅意味着电动智能化时代,车辆对于芯片的需求量升高,也侧面反映出车辆所需的芯片技术难度与成本快速攀升。1 z @' ]2 ~# i( C4 `1 O# x
从技术角度看,传统汽车半导体器件至少有40种以上,单车使用总量在500-600个,其中主要包含MCU、功率半导体(IGBT、MOSFET等)、传感器和各类模拟器件,自动驾驶汽车还会用到如ADAS辅助类芯片、CIS、AI处理器、激光雷达、毫米波雷达和MEMS等一系列产品。
) Y- }$ a W* V4 {! o( V% @# M# | 目前,市面上主流及高端电动车在40-45nm制程的芯片占比已经下降至45%,而45nm制程以上的芯片占比则仅为5%。40nm以下的成熟高阶制程芯片以及更先进的10nm、7nm制程芯片无疑是汽车行业新时代下的全新竞争领域,所以光刻机的先进制程芯片需求也会变得更加强烈。
' o6 r# Z; O' ?# c, M 也就是说,无论是EUV还是DUV,ASML被荷兰出口管制,对我国汽车芯片的影响将比以往更加严重。且有消息称,日本也会本月跟进美国新政。如今看来,我国光刻机产业孤立无援,只能依靠自己。6 ?# z- ~, [; G% ?
孤立无援,光刻机只是国产替代的缩影; j8 }; D i7 ^* j
生产光刻机很难,除了技术难度外,光刻机的生产复杂程度也超乎想象。据悉,随便一台光刻机内部的零部件就不少于10万个,而且这些零件还来自全球超5000家供应商。
: L) a' e2 a, ^2 K; x1 \. O 眼下,我国光刻机产业主要向28nm及以下制造工艺攻关,并且已经取得相应进展。9 l; H- Z7 w8 ~$ H- U1 E: a
据悉,2022年,上海微电子过了28nm光刻机的技术检测和认证,并最快将于2023年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机;中芯国际14nm已经基本可以量产,正在开展7nm和5nm的攻关;华为申请了“反射镜、光刻装置及控制方法”相关专利,在该光刻装置中,相干光源发出的光线经过旋转的反射镜反射后,再通过内置的照明系统分割为多个子光束并投射到掩膜版上,最后进行光刻环节。
8 ?7 t! \! W0 a7 z+ K/ }8 O 图源:华为
* w4 _* M: W/ a. q7 x 值得注意的是,彼时,日经亚洲评论相关报道,华为已经将这项技术分别授权给了梅赛德斯奔驰、宝马、奥迪以及保时捷等国际知名顶级汽车品牌,此现象足以说明华为正在积极寻求另外的技术转化,这也能够在未来成为华为新增收入来源之一。
7 l" b* ~2 J `# ^+ W 在产业链方面,也有不少相关厂商在EUV光刻机领域取得了阶段性突破:像清华攻克了光源技术壁垒,掌握了一种可以用于EUV光刻机的新光源、中科院也掌握了物镜系统技术等。. d& g( W; F* T) A' T8 l
此外,由于我国芯片产业接连被限制,各国开始居安思危,开发替代EUV光刻机的技术,如NIL纳米压印;电子束光刻机(EBL);自组装(DSA)光刻等。
6 {& W( g# D0 {# ^! i' `0 h- i# L. r5 ` 不可否认的事实是,在汽车产业快速变革下,整车制造能力的竞争注定将向着全新的产业链技术储备竞争转变。如此一来,光刻机只是国产替代的一个缩影,未来将会有更多产业在国内经历从0-1,甚至从1-10的发展历程。 |
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