|
|
/ y. N7 Q$ Y! _2 \) F1 A$ D7 q7 E. L
/ U' c3 v7 a c6 a& |. i0 E
% m- o7 o! c* G/ {文 | 华商韬略 幼清) M, t! B' K8 a8 j
说起芯片技术，除了屡屡被提到的光刻机，第二重要的便是“刻蚀机”。
Q# d' E; M5 u5 c5 \7 k6 r刻蚀机是什么？芯片生产主要有五个核心步骤，排在前两位的，便是光刻和刻蚀。$ |/ l+ K0 I9 d. d# n
如果说从硅片到芯片的过程是“剪窗花”，光刻机便是画花样的铅笔，刻蚀机就是沿着花样剪出花纹的剪刀。
R% w+ i2 o% o6 c* ] w" P2 w刻蚀机为何重要？刻蚀机和光刻机一样，都是芯片生产线上的重要设备，缺一不可，无可取代。: B, K# m. d4 [% P6 V8 ^) j7 j
而来自美国和日本的三家巨头企业，掌控了刻蚀机的市场份额，占比一度高达94%。中国每年进口的芯片总额超过2000亿美元，超过了原油。6 `! c+ S: A0 F1 z
1 M! e6 S% b$ I: R
' h% M2 ~9 p6 o# A
2 F1 |( e! }; }. K- ]% D6 U更严重的是，如今的芯片面临的困难正转变为“买无可买”。众所周知，近年来美国等国家对中国的芯片封锁愈发严重，包括华为在内的许多国企都将面临“无芯片可用”的困境。' Q. z5 e& m3 a% w7 N/ d5 O. P. ~
中国刻蚀机的发展，离不开被誉为“中国刻蚀机”第一人的尹志尧。
. y8 R1 }7 c1 `+ i2004年，曾为美国芯片制造装备研发领域资深专家的尹志尧回到中国，与数十位半导体华裔专家共同创业，放弃了美国千万年薪的工作。彼时的他，已年过六十。
; \# b+ \: X" t G0 z' [成立中微半导体后，尹志尧团队仅用了几年时间，就造出了第一台完全由我国自主研发的等离子体刻蚀机。, U7 G6 ^8 a9 D8 L0 @$ Z9 g# {
到2007年，中微推出可用于65至16纳米制芯片制造的等离子体刻蚀机。而目前，据尹志尧透露，中微研发的等离子刻蚀设备已经进入客户的5纳米生产线。发展速度可见一斑。
- f" b, X# d9 L' L; ]取得众多成就的同时，中微也遭受着领域空白、巨头打压、地缘政治等多重困难：2007年，应用材料公司将中微告上了美国法庭；2009年，美国泛林半导体在中国台湾状告中微专利侵权......5 R9 Q1 g3 V8 s' Y+ w
而这些困难，都被中微一一化解。截至目前，中微半导体已申请了1200多项专利技术。' R) f0 G) _7 G! I
除了中微，“北方华创”近年来也迅速崛起，有关其的最新报道“北方华创正式发布CCP介质刻蚀机 完成刻蚀领域最后一块拼图”非常振奋人心，让国人看见了中国芯片行业的希望。
. T% u, _: [% `
$ D9 Y% N4 I4 x9 i2 Y( i
( v8 B+ ]# E- w' i
) j3 P# S5 b8 H! Z尹志尧对中国刻蚀机的发展意义非凡，但如何能迎来更多“尹志尧”？对于人才的紧缺，尹志尧本人也不禁发出疑问：“我们有着世界上最多的大学毕业生，却找不到几个半导体可用人才，实在说不过去，我们的人才都哪儿去了？”
+ K: m2 L' F* p人才紧缺一直是技术卡脖子的重要原因，而为了让“芯片卡脖子”成为历史，首先要加强对国内人才的培养和储备，例如加大高校芯片相关产业和基础学科的招生人数。, P% V2 C- W f, I7 v6 m: ]
而对于国外人才，则应加强高端人才的引进，营造良好、稳定的工作环境。
& g6 |: o: u. f随着一份份财报中显示的芯片行业研发前景明朗、“科创板”等相关扶持政策不断出台，相信人才方面的空缺被填补后，中国芯片也将像中国刻蚀机一样，自主创新，不受制于人。
# f! Z& _1 r% C欢迎关注【华商韬略】，识风云人物，读韬略传奇。5 D8 S/ g& P$ D f
版权所有，禁止私自转载! h( o: L- y, H" p( _' _: h( c
部分图片来源于网络" J. v' M5 A, b! O% p4 D
如涉及侵权，请联系删除 |
本帖子中包含更多资源
您需要 登录 才可以下载或查看，没有账号？立即注册
×
|
|手机版|小黑屋|梦想之都-俊月星空
( 粤ICP备18056059号 )|网站地图
发表于 2022-10-9 08:31:04
