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棘手的光刻机,近期再次成为公众关注的焦点。2 ?) g% Q) w7 j" _( G* I2 e5 z
3月14日,光刻机板块盘中探底回升。其中金力泰大涨超10%,晶瑞电材、宝通科技大涨8%,扬帆新材、强力新材、富创精密、安集科技等涨幅靠前。/ w9 X2 `) J8 |6 m# P I. h
此次光刻机概念股集体上涨事出有因。报道称,消息面上,全球光刻机巨头ASML预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右(约合人民币超162亿元),其正在加快拓展在中国的业务和销售。+ k! H$ n9 f5 s
而ASML急于拓展其在华业务,主要与近期荷兰推出的最新半导体制造设备出口管制有关。这导致ASML不能自由出货,尤其是占比较大的中国市场。
* x. l5 b5 |, x 图源:ASML
" {1 D2 J& G8 y- `1 ]; r0 q: { 管制范围扩大到DUV,国内企业和ASML都不好过5 [$ e3 u i$ {7 ^3 K# `
当地时间3月8日,在跟美国政府达成协议1个多月后,荷兰政府以“国家安全”为由,宣布将对包括“最先进的”深紫外光刻机(DUV)在内的特定半导体制造设备实施新的出口管制。
1 \6 Y1 b# z' o1 m" l9 t 这意味着,荷兰方面已将光刻机出口管制的范围,由极紫外光刻机(EUV)扩大到了DUV。! \1 h3 K$ ~9 g5 C
由于DUV仍占很大出货比重,荷兰光刻机巨头ASML很快发布声明,称该公司需要申请许可证,才能出口最先进的浸没式DUV光刻机。$ p4 P# ^/ @5 B: t; o1 V; E
目前主流光刻机主要有两种:EUV光刻机和DUV光刻机。( v3 Y+ }. ^5 j0 C! d- W
前者为当下光刻机最高技术,主要用于7nm及以下先进芯片制造工艺,目前全球只有ASML一家可生产,2022年的出货量为40台,较2021年减少2台;后者可以制造7nm及以上制程的芯片,目前全球仅荷兰ASML和日本尼康两家可供货生产。其中,ASML占据绝对优势。$ h& h) \8 ]# l+ H6 F. {7 O, h2 ^
可以看出,ASML拥有极紫外(EUV)和浸没式深紫外(DUV)两种最先进的光刻技术,占据了全球市场份额的80%以上。, u9 l7 T5 [8 `* y* I1 A
其中,DUV光刻机将是ASML的业务重点。这主要是因为,此前,ASML的最大利润来源是EUV光刻机,三大主要客户分别是台积电、三星和Intel。
, T, ~2 x3 X6 ^+ U0 q" m- R 但是,台积电因为先进工艺产能过剩而关闭了部分EUV光刻机,其在美国的5nm工厂也未大举采购EUV光刻机而是将台湾的部分EUV光刻机运往美国;三星受到先进工艺产能过剩的影响,转而发展成熟工艺,为了争取成熟工艺客户主动降低芯片代工价格一成争抢客户;2022年底,由于需求下滑,Intel传出让Intel 4工厂员工放长假的消息,所以Intel也不太可能大规模采购EUV光刻机。5 D9 z" d2 y8 u9 K, M4 _
图源:三星官网
8 [* |/ K* m' n3 W' n 如此一来,ASML会将业务重心放在DUV上。这一点,从ASML的产能规划也能看出端倪。数据显示,ASML计划到2025年将DUV光刻机的产能提升至600台。此外,由于台积电、三星等芯片巨头把注意力集中在扩大5nm、3nm等先进制程工艺,不会采购DUV光刻机这类中低端设备,那么,对DUV光刻机需求依然旺盛的中国市场就成为了ASML的主要业务对象之一。. _' ~3 r) H N7 R
相关数据显示,中国大陆是ASML第三大市场,2021年出货量占ASML全球出货量总量的16%,2022年ASML对中国大陆的出货量下降到全球14%。如果继续下降,ASML在中国大陆的运营状况值得考量。
* K7 [! r5 B0 M" G 更加值得注意的是,我国计划在2025年实现七成芯片自给率,如今国产芯片自给率才达到三成,芯片产能扩张规模庞大,对DUV光刻机需求极大,这是ASML急需抓住的机会。
$ w8 V4 k+ @7 [3 p, m% O! v, a 智能化趋势下,光刻机对汽车产业的影响今非昔比, R9 B3 b* s8 q0 B" `* T
实际上,自2019年以来,ASML研发的最先进极紫外光(EUV)设备就已禁止销往中国。$ ~) E0 s) w( _
中国汽车芯片产业创新战略联盟的数据显示,2019年中国汽车芯片进口率超90%。但值得注意的是,彼时,我国汽车产业还处于新能源转型时期,多数汽车芯片只需要28nm制程就可以满足。
# N2 p' f+ N+ A7 C1 T1 d 然而时至今日,2023年是新能源汽车产业逐步转向智能化重点攻关,自2022年底,国内自动驾驶产业如雨后春笋般成长起来。激光雷达企业禾赛科技已赴美IPO;也有消息称自动驾驶企业文远知行已秘密在美国申请IPO。且甚至连此前被阴霾笼罩的国外自动驾驶企业也开始重新振作,比如Argo AI创始人创办了全新自动驾驶公司。" D, ~" z$ N& J* b/ [
图源:文远知行 N6 s3 t' u; |& _6 d% [) x$ v3 ^2 p
换言之,随着汽车行业电动化与智能化的转型,辅助驾驶功能渗透率越来越高,这些功能的实现需借助于摄像头、雷达等新增的传感器数据。车用芯片的供应压力,只会在未来成倍增长。1 t% x1 r( O( t3 v( d( @2 B) w
有汽车行业专家表示,在未来高端智能电动车领域,单车芯片搭载量将数倍增加,达到3000片以上;汽车半导体占整车物料成本比重,将从2019年的4%提升至2025年的12%,并或将在2030年提升至20%。) F" [+ m! H D5 |) |# l: c6 D5 E
这不仅意味着电动智能化时代,车辆对于芯片的需求量升高,也侧面反映出车辆所需的芯片技术难度与成本快速攀升。1 n! c$ E) Q0 N2 c/ A4 G8 |
从技术角度看,传统汽车半导体器件至少有40种以上,单车使用总量在500-600个,其中主要包含MCU、功率半导体(IGBT、MOSFET等)、传感器和各类模拟器件,自动驾驶汽车还会用到如ADAS辅助类芯片、CIS、AI处理器、激光雷达、毫米波雷达和MEMS等一系列产品。6 a. v( z$ F) p* g
目前,市面上主流及高端电动车在40-45nm制程的芯片占比已经下降至45%,而45nm制程以上的芯片占比则仅为5%。40nm以下的成熟高阶制程芯片以及更先进的10nm、7nm制程芯片无疑是汽车行业新时代下的全新竞争领域,所以光刻机的先进制程芯片需求也会变得更加强烈。
: ?4 U5 g( ?# m 也就是说,无论是EUV还是DUV,ASML被荷兰出口管制,对我国汽车芯片的影响将比以往更加严重。且有消息称,日本也会本月跟进美国新政。如今看来,我国光刻机产业孤立无援,只能依靠自己。
/ d! ~1 Q6 ] s5 I; i$ v! D& z: e 孤立无援,光刻机只是国产替代的缩影
5 |: H- `+ ^. Q2 J 生产光刻机很难,除了技术难度外,光刻机的生产复杂程度也超乎想象。据悉,随便一台光刻机内部的零部件就不少于10万个,而且这些零件还来自全球超5000家供应商。3 j2 b, `, ]+ k$ U$ {! s' C% C# i
眼下,我国光刻机产业主要向28nm及以下制造工艺攻关,并且已经取得相应进展。7 w! r6 t r1 o$ {* p
据悉,2022年,上海微电子过了28nm光刻机的技术检测和认证,并最快将于2023年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机;中芯国际14nm已经基本可以量产,正在开展7nm和5nm的攻关;华为申请了“反射镜、光刻装置及控制方法”相关专利,在该光刻装置中,相干光源发出的光线经过旋转的反射镜反射后,再通过内置的照明系统分割为多个子光束并投射到掩膜版上,最后进行光刻环节。! i+ l6 H7 \) g
图源:华为
7 I0 `- Q4 x2 `; ~. ] 值得注意的是,彼时,日经亚洲评论相关报道,华为已经将这项技术分别授权给了梅赛德斯奔驰、宝马、奥迪以及保时捷等国际知名顶级汽车品牌,此现象足以说明华为正在积极寻求另外的技术转化,这也能够在未来成为华为新增收入来源之一。7 [8 O) f& F0 k' O
在产业链方面,也有不少相关厂商在EUV光刻机领域取得了阶段性突破:像清华攻克了光源技术壁垒,掌握了一种可以用于EUV光刻机的新光源、中科院也掌握了物镜系统技术等。
+ E& C5 `+ i) g 此外,由于我国芯片产业接连被限制,各国开始居安思危,开发替代EUV光刻机的技术,如NIL纳米压印;电子束光刻机(EBL);自组装(DSA)光刻等。
% k" e* S }+ }9 V* D# ^ 不可否认的事实是,在汽车产业快速变革下,整车制造能力的竞争注定将向着全新的产业链技术储备竞争转变。如此一来,光刻机只是国产替代的一个缩影,未来将会有更多产业在国内经历从0-1,甚至从1-10的发展历程。 |
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