一己之力打破外国技术垄断，“中国刻蚀机之父”，成就了传奇 ...

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原标题：一己之力打破外国技术垄断，“中国刻蚀机之父”，成就了传奇
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文 | 华商韬略 幼清
, g4 @# n/ i# u: H  t* s  L 说起芯片技术，除了屡屡被提到的光刻机，第二重要的便是“刻蚀机”。
; ^; g: b  B% ]9 S& }5 O% v 刻蚀机是什么？芯片生产主要有五个核心步骤，排在前两位的，便是光刻和刻蚀。
如果说从硅片到芯片的过程是“剪窗花”，光刻机便是画花样的铅笔，刻蚀机就是沿着花样剪出花纹的剪刀。
刻蚀机为何重要？刻蚀机和光刻机一样，都是芯片生产线上的重要设备，缺一不可，无可取代。
4 t& c  Z1 K4 l. Z# s 而来自美国和日本的三家巨头企业，掌控了刻蚀机的市场份额，占比一度高达94%。中国每年进口的芯片总额超过2000亿美元，超过了原油。
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更严重的是，如今的芯片面临的困难正转变为“买无可买”。众所周知，近年来美国等国家对中国的芯片封锁愈发严重，包括华为在内的许多国企都将面临“无芯片可用”的困境。
# ]5 B4 [) b- Z9 Z  F3 C0 G4 u 中国刻蚀机的发展，离不开被誉为“中国刻蚀机”第一人的尹志尧。
2004年，曾为美国芯片制造装备研发领域资深专家的尹志尧回到中国，与数十位半导体华裔专家共同创业，放弃了美国千万年薪的工作。彼时的他，已年过六十。
' h& s, |2 J; E+ @ 成立中微半导体后，尹志尧团队仅用了几年时间，就造出了第一台完全由我国自主研发的等离子体刻蚀机。
+ Q4 R) _) v4 _3 w) Y8 d 到2007年，中微推出可用于65至16纳米制芯片制造的等离子体刻蚀机。而目前，据尹志尧透露，中微研发的等离子刻蚀设备已经进入客户的5纳米生产线。发展速度可见一斑。
& v! s  U7 Q8 J/ c4 ?* x 取得众多成就的同时，中微也遭受着领域空白、巨头打压、地缘政治等多重困难：2007年，应用材料公司将中微告上了美国法庭；2009年，美国泛林半导体在中国台湾状告中微专利侵权......
( I9 Y: w, X1 q( ^" Z 而这些困难，都被中微一一化解。截至目前，中微半导体已申请了1200多项专利技术。
  I7 N9 F% p7 i+ w$ ~" E. x 除了中微，“北方华创”近年来也迅速崛起，有关其的最新报道“北方华创正式发布CCP介质刻蚀机 完成刻蚀领域最后一块拼图”非常振奋人心，让国人看见了中国芯片行业的希望。
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( m/ e( o8 \3 G! A 尹志尧对中国刻蚀机的发展意义非凡，但如何能迎来更多“尹志尧”？对于人才的紧缺，尹志尧本人也不禁发出疑问：“我们有着世界上最多的大学毕业生，却找不到几个半导体可用人才，实在说不过去，我们的人才都哪儿去了？”
人才紧缺一直是技术卡脖子的重要原因，而为了让“芯片卡脖子”成为历史，首先要加强对国内人才的培养和储备，例如加大高校芯片相关产业和基础学科的招生人数。
而对于国外人才，则应加强高端人才的引进，营造良好、稳定的工作环境。
& u( e' a1 t6 n5 c$ i 随着一份份财报中显示的芯片行业研发前景明朗、“科创板”等相关扶持政策不断出台，相信人才方面的空缺被填补后，中国芯片也将像中国刻蚀机一样，自主创新，不受制于人。
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