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一己之力打破外国技术垄断,“中国刻蚀机之父”,成就了传奇 ...

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发表于 2022-10-9 08:31:04 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自 中国

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3 U4 O4 r, J- C7 F( Z文 | 华商韬略 幼清
3 x2 y: ]  ]/ u! W说起芯片技术,除了屡屡被提到的光刻机,第二重要的便是“刻蚀机”。
" Q# t1 m" ~4 m9 g  }/ J; Y刻蚀机是什么?芯片生产主要有五个核心步骤,排在前两位的,便是光刻和刻蚀。' }. X" s7 j$ T" ?: J% T
如果说从硅片到芯片的过程是“剪窗花”,光刻机便是画花样的铅笔,刻蚀机就是沿着花样剪出花纹的剪刀。
5 p5 ]% R/ O2 v刻蚀机为何重要?刻蚀机和光刻机一样,都是芯片生产线上的重要设备,缺一不可,无可取代。+ @5 O- ?: H3 }' m5 b/ o
而来自美国和日本的三家巨头企业,掌控了刻蚀机的市场份额,占比一度高达94%。中国每年进口的芯片总额超过2000亿美元,超过了原油。
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更严重的是,如今的芯片面临的困难正转变为“买无可买”。众所周知,近年来美国等国家对中国的芯片封锁愈发严重,包括华为在内的许多国企都将面临“无芯片可用”的困境。
; ~$ a1 c1 y* p0 _中国刻蚀机的发展,离不开被誉为“中国刻蚀机”第一人的尹志尧。
, N: Z3 H7 `/ r3 n2004年,曾为美国芯片制造装备研发领域资深专家的尹志尧回到中国,与数十位半导体华裔专家共同创业,放弃了美国千万年薪的工作。彼时的他,已年过六十。. P( v2 Y& H2 K- N$ d- [
成立中微半导体后,尹志尧团队仅用了几年时间,就造出了第一台完全由我国自主研发的等离子体刻蚀机。* T' x7 d( o% L" I8 f
到2007年,中微推出可用于65至16纳米制芯片制造的等离子体刻蚀机。而目前,据尹志尧透露,中微研发的等离子刻蚀设备已经进入客户的5纳米生产线。发展速度可见一斑。2 z4 ]5 ?, M* T! r" ]9 L
取得众多成就的同时,中微也遭受着领域空白、巨头打压、地缘政治等多重困难:2007年,应用材料公司将中微告上了美国法庭;2009年,美国泛林半导体在中国台湾状告中微专利侵权......7 X, T% O- f3 D! `2 s
而这些困难,都被中微一一化解。截至目前,中微半导体已申请了1200多项专利技术。
& D/ I# I( v# c; |8 V除了中微,“北方华创”近年来也迅速崛起,有关其的最新报道“北方华创正式发布CCP介质刻蚀机 完成刻蚀领域最后一块拼图”非常振奋人心,让国人看见了中国芯片行业的希望。
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尹志尧对中国刻蚀机的发展意义非凡,但如何能迎来更多“尹志尧”?对于人才的紧缺,尹志尧本人也不禁发出疑问:“我们有着世界上最多的大学毕业生,却找不到几个半导体可用人才,实在说不过去,我们的人才都哪儿去了?”" m# I9 \: K. d
人才紧缺一直是技术卡脖子的重要原因,而为了让“芯片卡脖子”成为历史,首先要加强对国内人才的培养和储备,例如加大高校芯片相关产业和基础学科的招生人数。/ W5 U) g5 ?- g3 Y
而对于国外人才,则应加强高端人才的引进,营造良好、稳定的工作环境。
2 O9 w: `  ~$ N% L随着一份份财报中显示的芯片行业研发前景明朗、“科创板”等相关扶持政策不断出台,相信人才方面的空缺被填补后,中国芯片也将像中国刻蚀机一样,自主创新,不受制于人。
& o3 [' _& r4 d7 r% q9 Y欢迎关注【华商韬略】,识风云人物,读韬略传奇。
. \; b- u( P4 p8 z8 ^% c% f. Q$ u+ f版权所有,禁止私自转载  B& K, B* j% K, m7 a
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发表于 2022-10-9 08:42:46 | 显示全部楼层 来自 中国
吹什么大牛皮?投放市场再说
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发表于 2022-10-9 08:54:58 | 显示全部楼层 来自 中国
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发表于 2022-10-9 09:07:25 | 显示全部楼层 来自 中国
你胡扯什么呀?
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发表于 2022-10-9 09:18:51 | 显示全部楼层 来自 中国
尹志尧80年代去到美国,学着美国的技术、领着美国的薪水,用着美国的科研经费、白眼狼
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