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$ W% }) O% H9 G z文 | 华商韬略 幼清
1 Z% N! W8 x" r# M" g9 O* _* m' p6 ?: H说起芯片技术，除了屡屡被提到的光刻机，第二重要的便是“刻蚀机”。
4 P% D. f; _$ a2 H刻蚀机是什么？芯片生产主要有五个核心步骤，排在前两位的，便是光刻和刻蚀。
5 b+ c- \ h% d* ? R如果说从硅片到芯片的过程是“剪窗花”，光刻机便是画花样的铅笔，刻蚀机就是沿着花样剪出花纹的剪刀。
/ J: I1 ]1 m1 @3 x, V# O刻蚀机为何重要？刻蚀机和光刻机一样，都是芯片生产线上的重要设备，缺一不可，无可取代。9 \# U3 q H9 @" ]5 G
而来自美国和日本的三家巨头企业，掌控了刻蚀机的市场份额，占比一度高达94%。中国每年进口的芯片总额超过2000亿美元，超过了原油。5 m4 j/ M; b$ i a& ~; {1 q
2 k+ D' {( h9 r7 E3 N8 g$ a8 O: `6 G( G! k
. Z! ]( @& T2 _/ p更严重的是，如今的芯片面临的困难正转变为“买无可买”。众所周知，近年来美国等国家对中国的芯片封锁愈发严重，包括华为在内的许多国企都将面临“无芯片可用”的困境。: u8 r& Y) L/ S. d0 D! t9 ^
中国刻蚀机的发展，离不开被誉为“中国刻蚀机”第一人的尹志尧。
& o1 m( X, `, d- t2004年，曾为美国芯片制造装备研发领域资深专家的尹志尧回到中国，与数十位半导体华裔专家共同创业，放弃了美国千万年薪的工作。彼时的他，已年过六十。& Z! p& X$ }+ P/ V# }9 n: K
成立中微半导体后，尹志尧团队仅用了几年时间，就造出了第一台完全由我国自主研发的等离子体刻蚀机。- P/ J+ |8 o( J: J! m. @" i
到2007年，中微推出可用于65至16纳米制芯片制造的等离子体刻蚀机。而目前，据尹志尧透露，中微研发的等离子刻蚀设备已经进入客户的5纳米生产线。发展速度可见一斑。
# n: c( f' w4 w9 _( j8 C" C- M! m取得众多成就的同时，中微也遭受着领域空白、巨头打压、地缘政治等多重困难：2007年，应用材料公司将中微告上了美国法庭；2009年，美国泛林半导体在中国台湾状告中微专利侵权......
E9 [ C0 q8 [6 t' Q- W+ ~而这些困难，都被中微一一化解。截至目前，中微半导体已申请了1200多项专利技术。8 |. F# X/ a* I* A# A1 z3 X
除了中微，“北方华创”近年来也迅速崛起，有关其的最新报道“北方华创正式发布CCP介质刻蚀机 完成刻蚀领域最后一块拼图”非常振奋人心，让国人看见了中国芯片行业的希望。
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尹志尧对中国刻蚀机的发展意义非凡，但如何能迎来更多“尹志尧”？对于人才的紧缺，尹志尧本人也不禁发出疑问：“我们有着世界上最多的大学毕业生，却找不到几个半导体可用人才，实在说不过去，我们的人才都哪儿去了？”/ C6 j7 w1 D' b+ @
人才紧缺一直是技术卡脖子的重要原因，而为了让“芯片卡脖子”成为历史，首先要加强对国内人才的培养和储备，例如加大高校芯片相关产业和基础学科的招生人数。) U, P$ ^! ~* F; o( N
而对于国外人才，则应加强高端人才的引进，营造良好、稳定的工作环境。
& t- g, ?1 ~" `: ?( v随着一份份财报中显示的芯片行业研发前景明朗、“科创板”等相关扶持政策不断出台，相信人才方面的空缺被填补后，中国芯片也将像中国刻蚀机一样，自主创新，不受制于人。8 R9 X1 p/ F8 E3 `6 ~$ p9 v
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发表于 2022-10-9 08:31:04
